真空鍍膜的材料及特性

　　真空鍍膜的鍍膜材料有金屬和非金屬。金屬有鋁、镕、銅、金、鎳、欽、鎢、相等，以鋁最常用；非金屬為氧化物，氧化硅和氧化鋁是實用的氧化物鍍膜材料。
 
　　真空鍍鋁
 
　　真空鍍鋁的原理是將高純度的鋁絲，如蛆．陽％純度的鋁絲，放在真空室內，當真空度達到o．?！?．7Ph，加熱溫度在1咖。14M宅時，銅絲即熔化蒸發。鋁分子作直線飛行，冷凝在被鍍的基材表面，在基材表面形成—層連續而光亮的金屬鋁膜。
 
　　真空鍍膜具有以下的特性：
 
　　(1)阻陰性高。真空鍍膜后的RT量大大降低，如表2—15所示。衰2—15航、CPP鍍鋁前后的阻隔性對比
 
　　在軟包裝中，應用最廣泛的鍍鋁膜是Pm、cPP鍍鋁膜，它又分為普通真空與加強型鍍鋁膜兩類。
 
　　普通真空鍍鋁膜是在高真空狀態下將侶蒸氣沉淀堆積到基膜上的一種薄膜，鍍鋁層的厚度一般在3刃入左右(如某企業標推要求，鍍鋁層厚度為350Ai8％)。真空鍍鋁膜除具有原有基膜的機械特性外，還具有很強的裝飾性和更好的阻隔性。
 
　　從表2—15中可以看出，耶T、cPP經鍍鋁后水蒸氣、氧氣的透過率及透光串大為降低，可以作為較好的阻隔性材料來使用。